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离子注入机与光刻机、刻蚀机和镀膜机并称半导体晶圆制造四大核心装备，开发难度仅次于光刻机。离子注入机主要由离子源、磁分析器、加速管或减速管、聚焦和扫描系统、工艺腔（靶室和后台处理系统）五部分组成。

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钨钼材料高温化学性质稳定、热变形小和使用寿命长等优点，因此半导体行业离子注入机离子源部件及耗件多采用钨、钼材料制造，这些器件包括发射电子的阴极屏蔽筒、弧室面板等。厦门虹鹭在钨钼领域加工领域深耕多年，拥有成熟的加工工艺和完备的检测技术。经过对传统钨钼材料工艺进行优化（包括高纯化、合金化处理，烧结致密化，细晶化、二次晶粒细化控轧控锻等技术），可以显著提高传统钨钼材料的寿命、耐高温及抗蠕变性能。

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半导体离子注入机离子源用钨钼棒及钨钼板性能特征